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标签 > 干涉仪
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优可测白光干涉仪AM系列:量化管控纳米级粗糙度,位移传感器关键零件寿命提升50%
位移传感器模组的编码盘,其粗糙度及码道的刻蚀深度和宽度,会对性能带来关键性影响。优可测白光干涉仪精确测量表面粗糙度以及刻蚀形貌尺寸,精度最高可达亚纳米级...
应用探究|PPLN波导赋能量子重力传感:星载冷原子干涉仪应用
基于MgO:PPLN波导的1560nm至780nm高效倍频技术,冷原子干涉技术通过铷原子冷却与物质波干涉,实现了对于重力加速度的精密测量。凭借由昊量光电...
每个导弹制导系统都由高度控制系统和飞行路径控制系统组成。高度控制系统的作用是通过控制导弹的俯仰、横滚和偏航,将导弹保持在有序飞行路径上的所需高度。高度控...
光刻胶图案化方法及光刻胶剥离方法及白光干涉仪在光刻图形的测量
引言 在半导体制造与微纳加工领域,光刻胶的图案化和剥离是形成精确图形结构的关键步骤,而光刻图形的准确测量则是确保工艺质量的重要环节。本文将详细介绍光刻胶...
低含量 NMF 光刻胶剥离液和制备方法及白光干涉仪在光刻图形的测量
引言 在半导体制造过程中,光刻胶剥离液是不可或缺的材料。N - 甲基 - 2 - 吡咯烷酮(NMF)虽在光刻胶剥离方面表现出色,但因其高含量使用带来的成...
减少光刻胶剥离工艺对器件性能影响的方法及白光干涉仪在光刻图形的测量
引言 在半导体制造领域,光刻胶剥离工艺是关键环节,但其可能对器件性能产生负面影响。同时,光刻图形的精确测量对于保证芯片制造质量至关重要。本文...
Micro OLED 阳极像素定义层制备方法及白光干涉仪在光刻图形的测量
引言 Micro OLED 作为新型显示技术,在微型显示领域极具潜力。其中,阳极像素定义层的制备直接影响器件性能与显示效果,而光刻图形的精准测量...
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